인텔-ASML, 하이 NA EUV 업계 도입 확대 '맞손'

인텔 파운드리와 ASML이 차세대 반도체 제조 기술인 하이 NA(고개구율) 극자외선(EUV) 리소그래피의 업계 도입 확대를 위해 협력을 이어간다. 기존 6인치 마스크를 활용한 기술 적용을 지원하는 동시에, 향후 적용 규모 확대를 위한 대형 마스크 생태계 구축도 추진한다.인텔 파운드리와 ASML은 미국 캘리포니아 몬터레이에서 열리는 'SPIE 포토마스크 테크놀로지 + 차세대 극자외선 공정' 콘퍼런스에서 하이 NA EUV 리소그래피 기술의 양산 적용과 향후 도입을 이끌 주요 기술의 진전 상황을 공개했다.양사에 따르면 하이 NA 기술은